포인트엔지니어링
기업분석 & 주식 2020. 2. 13. 14:25
사업
핵심사업 분야는 디스플레이 제조장비 부품
LCD, OLED와 같은 디스플레이 패널 및 반도체를 제조할 때에는 CVD(Chemical Vapor Deposition; 화학증착), Dry Etcher(건식 식각장비)와 같은 장비를 사용하여 박막을 증착하고, 패턴을 형성하는 공정을 진행. 이와 같은 공정은 장비의 진공 Chamber에 반응가스를 도입하여 진행되는데, 양질의 박막 및 패턴을 형성하기 위해서는 장비 내 핵심부품의 품질이 매우 중요
디스플레이 제조장비 부품의 업계현황 및 시장전망
플렉서블 디스플레이는 유리기판 대신 플라스틱 소재를 사용하여 벤더블, 폴더블, 롤러블 형태로 발전. 플렉서블 디스플레이는 LCD, OLED 등으로 구현 가능하지만 99%이상 OLED를 적용한 제품이 개발
이와같이, TV와 스마트폰이 주요적용분야였던 디스플레이 시장이 웨어러블기기, 태블릿, 자동차분야 등으로 다양하게 분야로 확대되면서 성장의 축이 LCD중심에서 OLED로 이동하는 양상. 하지만, 여전히 대형 디스플레이 시장에서는 높은 가격과 수율문제 등으로 LCD 중심의 구조를 유지할 것으로 예상.
이렇게 디스플레이 산업이 성장하면서, 장비투자도 활발히 진행되고 있는데, 전 세계 디스플레이 시장의 상당부분을 차지하고 있는 국내업체들의 투자가 이어지고 있으며 중화권 업체 또한 OLED패널 생산 장비 발주를 본격적으로 진행.
따라서, 디스플레이의 필요성 증가, OLED패널 시장의 확대 등으로 연결실체의 디스플레이 공정용 부품산업 또한 지속적으로 급격한 성장세에 놓여 있어, 기술개발과 투자를 확대.
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알루미늄 금속의 표면처리 기술을 기반으로 주력사업인 디스플레이(LCD 및 OLED), 그리고 반도체용 공정장비 부품의 제작 및 표면처리와 신규사업인 LED, Gas Sensor 등의 사업영역으로 구성.
디스플레이(LCD 및 OLED) 부문
주요 제품은 공정 챔버 내 가스의 분포를 균일하게 처리하는 Diffuser
Susceptor 및 Shadow Frame 또한 큰 세대의 수요량이 증가하고 있으며, 특히 OLED를 처리하는 공정에서 기존 환경에 비해 열악한 조건에 내성을 가진 특수 피막 처리에 대한 수요가 증대하고 있어 해당 사업군의 활발한 진출이 예상
반도체 부문
디스플레이(LCD 및 OLED) 부문에서 소개된 Diffuser와 마찬가지로, Wafer 적용 사이즈에 따른 Diffuser를 주력으로 생산
공정중의 가스를 균일하게 분사시켜주는 장치로, 스팩에 따라 홀의 크기와 균일도 등에 차이를 나타내며, 알루미늄 금속부품의 반응가스에 대한 부식률을 낮추고 Plasma 특성에 영향을 미치지 않도록 전기특성을 고려해야 하는 피막적용이 필요한 제품
주요 거래처
진공밸브 전문회사인 스위스의 Vat Valve 사와 Applied Material 사에서 취급하는 부품으로, Vat Valve사의 진공밸브의 경우, 시장에서의 점유율은 약 78%를 차지하고 있습니다.
진공장비의 특성상 Chamber 내 Particle 발생 방지 및 Plasma Torture 감소 효과 및 제품의 수명 증가와 생산효율성 증가를 위해 알루미늄 소재를 해당 환경에서 보호할 수 있는 특수 Anodizing 처리가 필요. 개발한 특수 Anodizing 처리가 적용된 제품이 우수한 것으로 평가되어 각 고객사들은 신규 제조장비 및 기존 장비의 표면처리를 당사의 기술로 표면처리된 제품으로 교체할 계획을 가지고 있음.
UV LED 부문
Metal Frame은 전체 부피의 99%인 알루미늄과 나머지 수직절연층으로 구성된 LED 패키지용 금속기판으로, LED 산업군인 가시광영역의 조명분야와 적외선 영역의 센세분야, 그리고 자외선 영역의 경화 및 살균분야에 사용
국내 고객의 경우, LED 패키지 전문 제조사로 세계 시장에서 18% 이상의 Market Share를 보유한 삼성, 그리고 LG에 UV-LED 패키지용 기판을 공급
주요 제품
Diffuser(Shower Head)
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디스플레이(LCD 및 OLED) 제작 공정에서 Glass에 전극층 및 금속산화물을 증착하기 위한 CVD 장비를 사용함.
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CVD 장비 내 Glass 반응 물질 증착을 위한 반응가스를 균일하게 도포해주는 역할과 Plasma 상태를 제공하기 위한 전극 역할을 수행함.
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Glass 중앙부 및 Edge 부의 균일한 가스 분포를 위한 Hole 분포 및 미세 Hole 형성, 그리고 알루미늄 Body를 반응가스로부터 보호하기 위한 Anodizing 처리 기술 필요.
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대형 세대에 사용되는 제품일수록 고도의 Hole 제작 가공기술이 필요함
Susceptor
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Diffuser와 같이 CVD 챔버 내 주요 핵심 부품으로 사용됨.
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금속산화물 증착을 위해 Glass의 온도를 승온시켜 주는 Heater로, 균일한 Glass 온도분포를 위한 Heater Line 배열 및 제조기술과 내열, 내플라즈마성의 Anodizing 피막 기술이 필요함
Shadow Frame
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CVD 챔버 내 Glass Edge 부분에 금속산화물 증착을 방지하기 위한 Mask 부품임.
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Susceptor와 마찬가지로 내열, 내플라즈마성의 Anodizing 피막 기술이 적용됨
Metal Frame
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방열성능 및 소형화가 가능한 LED 용 금속기판.
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소형 Package(~3W급) 및 COB 형태의 High Power용 Module(~400W급) 적용 가능.
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특히, UV(자외선)에 대한 반사율과 방열성이 우수하여 UV 영역의 제품적용이 활발하게 진행되고 있음.
신규사업
Gas Sensor 기술
세계 가스센서 시장의 경우, 2016년 약 600만 달러에서 2021년 920만 달러 규모로 성장될 전망이며, 산업용의 수요 증가 보다는 환경오염에 대한 관심의 증가로 인해 환경센서의 수요시장이 크게 증가할 것으로 예상. 현재의 가스센서의 선도적 기술을 보유한 Main Player는 미국과 일본 업체로, 최근 IoT 관심과 적용기술로 인해 제품의 소형화 및 정밀화에 대한 개발과 제품화가 이루어지고 있음.
보유 기술을 적용한 Gas Sensor 부품은 알루미늄 양극산화 피막 기판을 응용한 저전력 Micro Heater 특성을 이용하여 저전력 및 고감도 Sensing의 특징을 가지고 있고 소형화 SMD Package 기술에 적합. 또한 기존의 Wafer 재료를 응용한 제품의 단점을 극복하는 새로운 제품으로 기술의 신규성을 확보.
AAO 기술의 사업전망
AAO기술은 연료전지, 태양전지등의 맴브레인과, 탄소나노튜브제작을 위한 주형틀로서의 템플릿, 바이오 분야에서의 세포 배양용기, 센서 맴브레인 등 활용분야가 매우 다양
최근에는 나노기술이 재료, 전자, 에너지, 우주항공, 의학 등 거의 모든 산업분야에서 응용이 가능함에 따라 높은 경제적 파급성을 지니고 있고, 건강과 생명연장의 요구가 강해지면서 바이오산업도 꾸준히 성장. 따라서, AAO기술의 다양한 응용분야를 분석하여 선택적 개발을 통한 사업화를 추진하고 있으며, 성공적인 사업화가 가능할 것으로 전망.
실질적으로 아직은 못하고 있음.